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有机合成专题

2010-1-7
资料类型: 专题训练 文件大小: 228.4 KB
来 源: zhuzidizi整理 作 者: 郓城一中李宗现
教材版本: 鲁科版 适用学校: 重点中学
下载条件: 下载链接: 下载
命题范围:
鲁科版有机化学基础第三章第三节
(3).在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀 线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点:①能跟 溶液发生显色反应:②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种.F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为 .
(4).化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应.G可能有
种结构,写出其中任一种同分异构体的结构简式 .

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